发明名称 |
一种用于干刻设备的导航片及导航方法 |
摘要 |
本发明公开了一种用于干刻设备的导航片及导航方法。所述干刻设备包括ESC底座和一承载硅片的承载圈,所述ESC底座上设置有同心的第一参考圆和第二参考圆,所述导航片为一透明圆片,所述导航片的直径小于等于所述承载圈的内圈直径,在所述导航片的多个径向方向上设置有刻度。采用上述导航片进行导航,能够更快地使机械手将导航片或者硅片放置到更准确的位置上,避免了因为硅片放置位置偏移而造成的刻蚀缺陷的发生。 |
申请公布号 |
CN103117239B |
申请公布日期 |
2017.02.01 |
申请号 |
CN201310041891.0 |
申请日期 |
2013.02.01 |
申请人 |
上海华虹宏力半导体制造有限公司 |
发明人 |
杜廷卫 |
分类号 |
H01L21/68(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/68(2006.01)I |
代理机构 |
上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 |
代理人 |
郑玮 |
主权项 |
一种用于干刻设备的导航片,所述干刻设备包括静电卡盘底座和一承载硅片的承载圈,所述静电卡盘底座上设置有同心的第一参考圆和第二参考圆,其特征在于,所述导航片为一透明圆片,所述导航片的直径小于等于所述承载圈的内圈直径,在所述导航片的多个径向方向上设置有刻度。 |
地址 |
201203 上海市张江高科技园区祖冲之路1399号 |