发明名称 |
一种显示基板的制作方法、显示基板及显示装置 |
摘要 |
本发明提供一种显示基板的制作方法、显示基板及显示装置。制作方法包括:在衬底基板上依次沉积第一材料层和第二材料层;使用掩膜板,在第二材料层上制作第一刻蚀保护图形;使用第二刻蚀液,对受第一刻蚀保护图形保护的第二材料层进行刻蚀,得到由剩余第二材料层形成的第二刻蚀保护图形;使用第一刻蚀液,对受第二刻蚀保护图形保护的第一材料层进行刻蚀,得到由剩余第一材料层形成的功能图形;第二刻蚀液不能刻蚀第一材料层。本发明能够制作出尺寸更小的功能图形。若功能图形为设置在显示区域中的不透光图形,则可以提高显示装置的透光率;若功能图形设置在显示装置的边框区域,则可以减小边框面积,从而实现窄边结构。 |
申请公布号 |
CN106371294A |
申请公布日期 |
2017.02.01 |
申请号 |
CN201611091709.2 |
申请日期 |
2016.12.01 |
申请人 |
京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
发明人 |
张光明;白金超;曲泓铭;于凯 |
分类号 |
G03F7/20(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01)I |
代理机构 |
北京银龙知识产权代理有限公司 11243 |
代理人 |
许静;刘伟 |
主权项 |
一种显示基板的制作方法,其特征在于,包括:在衬底基板上依次沉积第一材料层和第二材料层;使用掩膜板,在所述第二材料层上制作第一刻蚀保护图形;使用第二刻蚀液,对受第一刻蚀保护图形保护的第二材料层进行刻蚀,得到由剩余第二材料层所形成的第二刻蚀保护图形;使用第一刻蚀液,对受第二刻蚀保护图形保护的第一材料层进行刻蚀,得到由剩余第一材料层所形成的功能图形;其中,第二刻蚀液不能刻蚀第一材料层。 |
地址 |
100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 |