一种用于集成系统的电阻材料及其制作方法

摘要

本发明涉及一种用于集成系统的电阻材料及其制作方法，由如下重量份数的组分制成：纳米氧化锌3‑7份、三氧化二铋2‑6份、氧化钡4‑9份、碳酸锰1‑3份、氧化锰4‑8份、氧化亚镍3‑7份、氧化硅1‑3份、银玻璃2‑5份、正辛醇5‑9份、柠檬酸3‑5份、硬脂酸1‑3份和硝酸镁5‑8份。本发明的有益效果是：发明的制备工艺简单，操作方便，在降低了生产成本的同时，具有更优异的非线性系数，有效降低了电阻的残压比，减小了漏电流。

主权项

一种用于集成系统的电阻材料，其特征在于，由如下重量份数的组分制成：纳米氧化锌3‑7份、三氧化二铋2‑6份、氧化钡4‑9份、碳酸锰1‑3份、氧化锰4‑8份、氧化亚镍3‑7份、氧化硅1‑3份、银玻璃2‑5份、正辛醇5‑9份、柠檬酸3‑5份、硬脂酸1‑3份和硝酸镁5‑8份。