MASK BLANK TRANSFER MASK AND METHOD FOR MANUFACTURING TRANSFER MASKS

摘要

EB 결함 수정을 바람직하게 적용할 수 있고, 또한 차광막의 박막화를 가능하게 하는 마스크 블랭크를 제공한다. ArF 노광광이 적용되는 전사용 마스크를 작성하기 위해서 이용되며, 투광성 기판(1) 상에 차광막(2)을 갖는 마스크 블랭크(10)로서, 차광막(2)은, 천이 금속 및 규소에 산소 및 질소로부터 선택되는 적어도 1개 이상의 원소를 더 함유하는 재료를 주성분으로 하는 하층과, 천이 금속 및 규소에 산소 및 질소로부터 선택되는 적어도 1개 이상의 원소를 더 함유하는 재료를 주성분으로 하는 상층의 적어도 2층 구조로 이루어진다. 대상 부분에 불소를 함유하는 물질을 공급하고, 하전 입자를 조사하여 행하는 에칭에서의 상층의 에칭 레이트에 대한 하층의 에칭 레이트의 비가 1.0 이상 20.0 이하이다.