发明名称 |
一种小电流高压硅堆清洗工艺 |
摘要 |
本发明涉及一种小电流高压硅堆清洗工艺,步骤为:首先,利用机械臂将高压硅堆放入混酸溶液中清洗,将经过混酸清洗后的高压硅堆放入溢水中清洗;然后,再利用机械臂将高压硅堆放入稀HNO溶液中进行清洗,将经过稀HNO清洗后的高压硅堆放入溢水中清洗;最后,利用机械臂将高压硅堆放入稀HF中清洗,将经过稀HF清洗后的高压硅堆放入溢水中清洗;同时,在清洗的过程中,机械臂自动摆动,最后,将高压硅堆放入甩干机中进行脱水处理,脱水的时间t<sub>4</sub>=180s,完成清洗。本发明的优点在于:利用本工艺对焊接后的小电流高压硅堆进行清沟,可以很好的去除附着在高压硅堆表面的焊油、水汽等杂质,相应的增加其耐久性及可靠性。 |
申请公布号 |
CN104241098B |
申请公布日期 |
2017.02.01 |
申请号 |
CN201410519686.5 |
申请日期 |
2014.09.30 |
申请人 |
如皋市大昌电子有限公司 |
发明人 |
黄丽凤;王志敏;张龙 |
分类号 |
H01L21/02(2006.01)I;B08B3/08(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/02(2006.01)I |
代理机构 |
北京一格知识产权代理事务所(普通合伙) 11316 |
代理人 |
滑春生 |
主权项 |
一种小电流高压硅堆清洗工艺,其特征在于:步骤为:a)首先,利用机械臂将高压硅堆放入混酸溶液中清洗,清洗的时间t<sub>1</sub>=222s±5s,混酸溶液的温度 T=10℃±2℃,同时,在清洗的过程中,机械臂自动摆动,以方便高压硅堆能够充分与混酸溶液接触;b)将经过混酸清洗后的高压硅堆放入溢水中清洗,同时,在清洗的过程中,机械臂自动摆动,以除去高压硅堆表面的混酸溶液;c)然后,再利用机械臂将高压硅堆放入稀HNO溶液中进行清洗,清洗的时间t<sub>2</sub>=22s±1s,同时,在清洗的过程中,机械臂自动摆动,以方便高压硅堆能够充分与稀HNO溶液接触;d)将经过稀HNO<sub>3</sub>清洗后的高压硅堆放入溢水中清洗,同时,在清洗的过程中,机械臂自动摆动,以除去高压硅堆表面的稀HNO溶液;e)最后,利用机械臂将高压硅堆放入稀HF中清洗,清洗的时间t<sub>3</sub>=22s±1s,同时,在清洗的过程中,机械臂自动摆动,以方便高压硅堆能够充分与稀HF溶液接触;f)将经过稀HF清洗后的高压硅堆放入溢水中清洗,同时,在清洗的过程中,机械臂自动摆动,以除去高压硅堆表面的稀HF溶液;g)最后,将高压硅堆放入甩干机中进行脱水处理,脱水的时间t<sub>4</sub>=180s,完成清洗。 |
地址 |
226500 江苏省南通市如皋市柴湾镇镇南村13组 |