发明名称 一种复合原子氧防护涂层的制备方法
摘要 本发明涉及一种复合原子氧防护涂层的制备方法,属于航空航天技术领域。本发明的特点在于:采用液相化学制膜法制备PHPS过渡层,然后再采用化学气相沉积技术制备硅氧烷原子氧防护涂层,将液相化学制膜法和化学气相沉积法结合起来,制备出的复合原子氧防护涂层结合力大大提高,涂层中没有贯通性缺陷,使用时也不会有原子氧剥蚀通道的产生,大幅提高涂层的防原子氧性能,且延长了使用寿命长。
申请公布号 CN106366337A 申请公布日期 2017.02.01
申请号 CN201610779448.7 申请日期 2016.08.30
申请人 兰州空间技术物理研究所 发明人 赵琳;李中华;杨生胜;马亚莉
分类号 C08J7/04(2006.01)I;C09D183/16(2006.01)I;C09D7/12(2006.01)I;C08L79/08(2006.01)N;C08L67/00(2006.01)N 主分类号 C08J7/04(2006.01)I
代理机构 北京理工大学专利中心 11120 代理人 李爱英;杨志兵
主权项 一种复合原子氧防护涂层的制备方法,其特征在于:包括以下步骤:(1)将PHPS、催化剂、溶剂、填料和添加剂混合均匀制成含硅的溶液组合物,所有成分的总质量记为100%,其中PHPS为1~30wt.%;催化剂为0.001~5wt.%;溶剂为45~98.989wt.%;填料为0.01~10wt.%;添加剂为0~10wt.%;(2)将含硅的溶液组合物涂覆在洁净的有机基底材料(1)上,制得试样;(3)将(2)中制得的试样放入烘箱中进行固化,制得附有一层PHPS过渡层(2)的试样;(4)将(3)中制得的试样放置于等离子体聚合设备的反应室内,将反应室抽真空至3×10<sup>‑3</sup>~8×10<sup>‑3</sup>Pa;(5)利用等离子体聚合设备的加热装置对试样加热至75~150℃并保持;(6)设定沉积功率为80~200W,硅源流量10~70sccm,氧气流量10~50sccm,沉积气压为8~35Pa,当硅氧烷原子氧防护涂层厚度达到200~500nm时,关闭设备,冷却制得附有一种复合原子氧防护涂层的试样;所述步骤(1)中催化剂为胺类催化剂和金属类催化剂中的一种以上,溶剂为烷烃类、醚类和酮类中的一种或多种,填料为氧化物填料,添加剂为分散助剂、消泡助剂和流平助剂中的一种或多种;所述步骤(2)中涂覆方式为狭缝挤压、辊涂、浸涂、旋涂、擦涂或喷涂;所述步骤(3)中PHPS过渡层(2)固化温度为0~350℃,湿度0~100%,固化时间1~48小时。
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