发明名称 VERTICAL TYPE CHAMBER ASSEMBLY FOR TREATING SUBSTRATE
摘要 본 발명은 공정가스를 웨이퍼를 향해 분사하도록 형성되는 상부챔버; 및 상기 상부챔버와 결합되어 밀폐 공간을 형성하고, 상기 웨이퍼를 지지하는 일면을 구비한 기판 안착부의 반대면에서 상기 공정가스를 복수의 이동 경로로 수집하여 배출하는 가스 흡입유닛을 구비하는 하부챔버;를 포함하고, 상기 가스 흡입유닛은, 상기 하부챔버에서 오목하게 형성되는 가스 흡입 공간과, 상기 가스 흡입 공간에 설치되어 상기 기판 안착부를 지지하며, 상기 복수의 이동 경로를 형성하는 가스 분할 이동부와, 상기 공정가스를 흡입하도록 상기 하부챔버와 연통되는 흡입 펌프 연결구와 상기 가스 분할 이동부를 연통하도록 형성되는 가스 흡입부;를 포함하는, 기판 처리용 종형 챔버 어셈블리에 관한 것이다.
申请公布号 KR101701381(B1) 申请公布日期 2017.02.01
申请号 KR20160114157 申请日期 2016.09.06
申请人 (주)펨토사이언스 发明人 김무환;장연숙
分类号 H01L21/02;H01L21/3065;H01L21/67;H01L21/683 主分类号 H01L21/02
代理机构 代理人
主权项
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