发明名称 |
研磨抛光机 |
摘要 |
本发明涉及一种研磨抛光机,该研磨抛光机包括机架、第一调节臂、第二调节臂、驱动机构、抛光盘及研磨台。第一调节臂与机架枢接,第二调节臂与第一调节臂铰接。驱动机构包括驱动电机及伸缩件,抛光盘设置于伸缩件的末端并通过穿设于伸缩件的驱动轴与驱动电机的转子连接,研磨台包括承载盘和集液板。上述研磨抛光机,可以在驱动电机的驱动下对放置在承载盘上的待加工部件进行研磨抛光处理,由于多个集液槽围绕承载盘分布,使得在研磨抛光过程中加入的抛光液可以汇集在多个集液槽中,待加工操作完成后在进行统一处理,如此解决了抛光液在加工过程中容易流出操作台的技术问题,并在提高了工作环境的卫生,从而提高了研磨抛光的效率。 |
申请公布号 |
CN106363527A |
申请公布日期 |
2017.02.01 |
申请号 |
CN201611086057.3 |
申请日期 |
2016.11.30 |
申请人 |
德米特(苏州)电子环保材料有限公司 |
发明人 |
周利虎;刘宇杰;宋军 |
分类号 |
B24B37/10(2012.01)I;B24B37/30(2012.01)I;B24B37/34(2012.01)I;B24B57/00(2006.01)I |
主分类号 |
B24B37/10(2012.01)I |
代理机构 |
广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 |
代理人 |
唐清凯 |
主权项 |
一种研磨抛光机,其特征在于,包括:机架;第一调节臂,所述第一调节臂与所述机架枢接;第二调节臂,所述第二调节臂与所述第一调节臂铰接;驱动机构,所述驱动机构包括驱动电机及伸缩件,所述驱动电机设置于所述第二调节臂上,所述伸缩件设置于所述第二调节臂上;抛光盘,所述抛光盘设置于所述伸缩件的末端并通过穿设于所述伸缩件的驱动轴与所述驱动电机的转子连接;研磨台,所述研磨台包括承载盘和集液板,所述承载盘设置于所述集液板的中部区域,所述集液板设置于所述机架上,所述集液板具有多个集液槽,多个所述集液槽围绕所述承载盘分布。 |
地址 |
215000 江苏省苏州市吴江区汾湖经济开发区东玲路西侧 |