| 摘要 |
두께 3 내지 50㎛의 수지 기재와, 무기 화합물을 포함하는 제1 가스 배리어층과, 폴리실라잔을 함유하는 도포액을 도포 및 건조하여 얻어지는 도막에 에너지를 인가하여 형성되고, SiON(단, 0.2<w≤0.55, 0.66<x≤0.75)로 표시되는 조성 범위를 만족하는 영역을, 50 내지 1000nm의 두께로 갖는 제2 가스 배리어층과, 제2 가스 배리어층에 접하여 형성된, 규소보다도 산화환원 전위가 낮은 금속의 산화물을 주성분으로서 포함하는 제3 가스 배리어층을 구비하는 가스 배리어성 필름을 구성하고, 50㎛ 이하의 수지 기재에 있어서, 충분한 가스 배리어성을 갖는 가스 배리어성 필름을 제공한다. |
