发明名称 Physical Vapor Deposition Apparatus
摘要 본 발명은 물리 기상 퇴적 장치를 공개한 것으로서, 반응 챔버; 상기 반응 챔버의 하부에서 상기 스퍼터링 타겟과 대향하여 배치되는 기판 지지부재; 상기 스퍼터링 타겟에 커플링 결합되는 직류 전원; 상기 스퍼터링 타겟에 커플링 결합되고, 분배 링 및 상기 분배 링의 주변을 따라 교대로 배치되는 다수의 분배 스트립을 포함하여, 상기 분배 링이 커플링 결합되어, 상기 분배 링이 상기 분배 스트립을 통해 상기 스퍼터링 타겟에 커플링 결합되는 무선주파수 전원을 포함한다. 본 발명의 실시예에 따른 물리 기상 퇴적 장치는 타겟에 발생된 네가티브 바이어스를 저하시켜 기판 또는 웨이퍼에 발생되는 손상을 감소시킬 수 있으며, 또한 퇴적 속도를 뚜렷하게 증가시킴으로써 공정 효율을 제고시켰다.
申请公布号 KR101700735(B1) 申请公布日期 2017.01.31
申请号 KR20157017062 申请日期 2013.11.25
申请人 베이징 엔엠씨 씨오., 엘티디. 发明人 첸 펑;자오 멍신;딩 페이준;왕 호우공;우 슈에웨이;리우 지안셩;겅 보;치우 구오칭;웬 리후이
分类号 H01J37/34;C23C14/35 主分类号 H01J37/34
代理机构 代理人
主权项
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