| 发明名称 |
TOP-LAYER MEMBRANE FORMATION COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN USING SAME |
| 摘要 |
[과제] 극자외선 노광에 의한 패턴 형성 방법에 있어서, 거칠기나 패턴 형상이 우수한 패턴을 형성할 수 있는 상층막 형성용 조성물과 이를 사용한 패턴 형성 방법의 제공. [해결 수단] 방향족성 수산기를 갖는 방향족 화합물 및 수성 용제를 포함하는 것을 특징으로 하는 상층막 형성용 조성물, 및 이 조성물을 레지스트 표면에 도포하고, 노광 현상함으로써 패턴을 형성하는 방법. 이 조성물은 바인더를 추가로 포함할 수 있다. |
| 申请公布号 |
KR20170010398(A) |
申请公布日期 |
2017.01.31 |
| 申请号 |
KR20167035668 |
申请日期 |
2015.05.19 |
| 申请人 |
에이제트 일렉트로닉 머티어리얼스 (룩셈부르크) 에스.에이.알.엘. |
发明人 |
스즈키 마사토;왕 샤오웨이;오카야스 데쓰오;하마 유스케;파블로브스키 게오르크 |
| 分类号 |
G03F7/11;G03F7/00;G03F7/032;G03F7/20 |
主分类号 |
G03F7/11 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
