湿式剥離性シリコン含有反射防止剤

摘要

【課題】複数の層をパターン転写用マスクと用いられるプロセスに使用するパターン転写中に所望のエッチング選択性を有し、湿式化学処理によって容易に除去可能であるシリコン含有反射防止材料の提供。【解決手段】式（１）で表される１つ以上の第１のモノマー又はそのダイマーと、式（２）で表される１つ以上の第２のモノマー又はそのダイマーとを重合単位として含むシロキサンポリマー。前記モノマーを含むポリマーの≧３０％が、ヒドロキシ、メルカプト、エポキシ、グリシジルオキシ等から選択される１つ以上の官能部分を含み、式ＨＳｉＸ３及びＳｉＸ４のモノマーを重合単位として含まない、シロキサンポリマー。Ｒ２ＳｉＸ２（１）ＲＳｉＸ３（２）（Ｒは各々独立にアリール、アラルキル、アルキル、アルケニル、アラルケニル又はＲ１、Ｒは１つ以上がＲ１；Ｒ１は１つ以上の−Ｃ（Ｏ）−Ｏ−Ｃ（Ｏ）−部分を含むＣ２−３０有機基；各Ｘは加水分解性部分）【選択図】なし