发明名称 EXPOSURE APPARATUS EXPOSURE METHOD AND METHOD FOR MANUFACTURING DEVICE
摘要 노광 장치는, 액체 (LQ) 를 공급하는 공급구 (12) 및 액체 (LQ) 를 회수하는 회수구 (22) 중 적어도 어느 일방을 갖는 노즐 부재 (70) 와, 기판 (P) 의 위치 또는 자세에 따라, 노즐 부재 (70) 의 위치 및 자세 중 적어도 어느 일방을 조정하는 노즐 조정 기구 (80) 를 구비하고 있다. 노광 장치는, 기판 (P) 상에 액체 (LQ) 의 액침 영역을 형성하고, 액침 영역의 액체 (LQ) 를 통하여 기판 (P) 을 노광한다. 이로써, 투영 광학계와 기판 사이에 액체를 양호하게 유지하여, 정밀도 좋은 노광 처리를 실시할 수 있다.
申请公布号 KR101700547(B1) 申请公布日期 2017.01.26
申请号 KR20157009282 申请日期 2005.09.16
申请人 가부시키가이샤 니콘 发明人 미즈타니 다케유키
分类号 H01L21/027;G03F7/20 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人
主权项
地址