| 发明名称 |
RECOVERY METHOD OF STRIPPER COMPOSITION FOR PHOTORESIST |
| 摘要 |
본 발명은 포토레지스트용 스트리퍼의 회수 방법에 관한 것이다. 구체적으로, 본 발명은 비양자성 용매 및 아미드 화합물을 포함하는 스트리퍼 폐액을 정제시 고형분을 제거후 저비점 혼합물과 고비점 혼합물을 순차적으로 제거하는 공정을 수행함으로써, 아미드 화합물 대비 저가이며 세정력이 향상된 향상된 비양자성 용매를 스트리퍼 폐액으로부터 회수하는 포토레지스트용 스트리퍼의 회수 방법이 제공된다. |
| 申请公布号 |
KR101700378(B1) |
申请公布日期 |
2017.01.26 |
| 申请号 |
KR20140040552 |
申请日期 |
2014.04.04 |
| 申请人 |
주식회사 엘지화학 |
发明人 |
이원재;김호수;김진수;최용진;정욱;정대철;전주영 |
| 分类号 |
G03F7/42;C11D7/26;C11D11/00;H01L21/67 |
主分类号 |
G03F7/42 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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