| 摘要 |
【課題】回転テーブルの下方に隙間が生じるプロセスであっても、第１及び第２の排気口で各々独立した排気を行うことができる基板処理装置を提供する。【解決手段】基板Ｗを載置可能であるとともに昇降可能な回転テーブル２と、該回転テーブルの周方向に沿って設けられ、第１の処理ガスを前記基板に供給可能な第１の処理ガス供給領域Ｐ１と、前記回転テーブルの周方向に沿って前記第１の処理ガス供給領域と離間して設けられ、第２の処理ガスを前記基板に供給可能な第２の処理ガス供給領域Ｐ２と、該第１及び第２の処理ガス供給領域に各々対応して前記回転テーブルよりも下方に設けられる第１及び第の２排気口６１０、６２０と、前記回転テーブルの上昇により生じた前記第１の排気口と前記第２の排気口が連通する連通空間Ｓを通じて、前記第２の処理ガスが前記第１の排気口に流れる経路の前記第１の排気口付近のコンダクタンスを低下させるコンダクタンス低下手段９０と、を有する。【選択図】図８ |
