| 摘要 |
Substratbehandlungsanlage zur Behandlung scheibenförmiger Substrate in horizontaler Lage, umfassend eine von Kammerwänden (6) begrenzte Anlagenkammer sowie innerhalb der Anlagenkammer mindestens eine Substratbehandlungseinrichtung und eine Transporteinrichtung, wobei die Transporteinrichtung eine Anordnung von in der Transportrichtung hintereinander angeordneten, horizontal ausgerichteten, drehbar gelagerten Transportwalzen zur Aufnahme der Substrate in einer horizontalen Substratebene aufweist, wobei vorgesehen ist, dass die Transportwalzen einen zylindrischen Walzenkörper (4) mit einem Hohlraum (9) aufweisen und in dem Hohlraum (9) ein Heizmittel (3) angeordnet ist, dadurch gekennzeichnet, dass der Walzenkörper (4) an mindestens einem ersten Ende in einer ersten Drehdurchführung (1) gelagert ist, die an einer Öffnung einer Kammerwand (6) der Anlagenkammer angeordnet ist; und dass die erste Drehdurchführung (1) eine Hohlwelle (10) umfasst, durch welche das Heizmittel (3) von außerhalb der Anlagenkammer in den Hohlraum des Walzenkörpers (4) einführbar ist. |
