重合性モノマー、高分子化合物、ポジ型レジスト材料、及びパターン形成方法

摘要

【課題】化学増幅ポジ型レジスト材料のベース樹脂として好適な高分子化合物、前記ポリマーを用いたポジ型レジスト材料、前記ポリマーを与える重合性モノマー、及びパターン形成方法の提供。【解決手段】式（１）で表される重合性モノマー。（Ｒ1はＨ又はメチル基；Ｒ2はＨ又は１価炭化水素基；Ｒ3はＨ、シアノ基、ニトロ基、又は炭素数１〜６の直鎖状、分岐状若しくは環状の１価炭化水素基；Ｒ4はＨ又は酸不安定基；Ｘ1は単結合、エステル基、エーテル基若しくはラクトン環を有する炭素数１〜１２の連結基、フェニレン基、又はナフチレン基；ｍは１〜４の整数）【選択図】なし