发明名称 半導体装置およびその製造方法
摘要 【課題】暗電流の小さいゲルマニウム受光器を実現する。【解決手段】ゲルマニウム受光器PD1は、p型シリコンコア層PSCの上面上に順次積層されたp型ゲルマニウム層PG、ノンドープのi型ゲルマニウム層IGおよびn型ゲルマニウム層NGから構成され、i型ゲルマニウム層IGの側面にはシリコンからなる第1キャップ層CA1が形成され、n型ゲルマニウム層NGの上面および側面にはシリコンからなる第2キャップ層CA2が形成されている。そして、n型ゲルマニウム層NGには、ゲルマニウムの共有結合半径よりも小さい共有結合半径を有する元素、例えばリンまたはヒ素などが導入されている。【選択図】図1
申请公布号 JP2017022175(A) 申请公布日期 2017.01.26
申请号 JP20150136331 申请日期 2015.07.07
申请人 ルネサスエレクトロニクス株式会社 发明人 宇佐美 達矢;小倉 卓
分类号 H01L31/10;H01L21/20;H01L21/205 主分类号 H01L31/10
代理机构 代理人
主权项
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