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发明名称
スクライブ方法及びスクライブ装置
摘要
【課題】SiCウエハをスクライブしブレイクする際に製造時のオフ角に基づく水平クラックの発生を防止すること。【解決手段】オフ角を有するSiC基板に対してオリフラに垂直にスクライブする際には、SiC基板の結晶軸に対して垂直な方向にスクライブする際に刃先の稜線に対する左右の刃先角度を異ならせ、結晶軸から見て高い位置にある刃先角度を大きく、他方を小さくしたスクライビングホイール21を用いてスクライブする。これによって水平クラックの発生を少なくすることができる。【選択図】図3B
申请公布号
JP2017022422(A)
申请公布日期
2017.01.26
申请号
JP20160213394
申请日期
2016.10.31
申请人
三星ダイヤモンド工業株式会社
发明人
村上 健二;武田 真和;木下 知子
分类号
H01L21/301;B28D5/02
主分类号
H01L21/301
代理机构
代理人
主权项
地址
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