发明名称 レジスト組成物
摘要 【課題】良好なフォーカスマージン(DOF)でレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供する。【解決手段】式(I)で表される構造単位、式(II)で表される構造単位及び酸不安定基を有する構造単位を含む樹脂(A1)と、酸発生剤とを含有するレジスト組成物。【選択図】なし
申请公布号 JP2017021340(A) 申请公布日期 2017.01.26
申请号 JP20160130178 申请日期 2016.06.30
申请人 住友化学株式会社 发明人 鈴木 雄喜;安江 崇裕;市川 幸司
分类号 G03F7/038;C08F220/28;G03F7/039 主分类号 G03F7/038
代理机构 代理人
主权项
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