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发明名称
レジスト組成物
摘要
【課題】良好なフォーカスマージン(DOF)でレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供する。【解決手段】式(I)で表される構造単位、式(II)で表される構造単位及び酸不安定基を有する構造単位を含む樹脂(A1)と、酸発生剤とを含有するレジスト組成物。【選択図】なし
申请公布号
JP2017021340(A)
申请公布日期
2017.01.26
申请号
JP20160130178
申请日期
2016.06.30
申请人
住友化学株式会社
发明人
鈴木 雄喜;安江 崇裕;市川 幸司
分类号
G03F7/038;C08F220/28;G03F7/039
主分类号
G03F7/038
代理机构
代理人
主权项
地址
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