| 摘要 |
【課題】 ナノインプリントによりマスターテンプレートからレプリカテンプレートを製造するレプリカテンプレートの製造方法において、段差構造の外周領域に生じる局所的なパターン歪みを取り除き、パターン位置精度の良好なテンプレートの製造方法及びテンプレートを提供する。【解決手段】 １段の段差構造を備える第１のテンプレートから、２段の段差構造を備える第２のテンプレートを製造するナノインプリント用テンプレートの製造方法であって、第１のテンプレートの１段の段差構造の外周領域をエッチングして、パターン領域を上面に有する部と、部よりも高さが低い外周部から構成される２段の段差構造を形成する工程と、を備え、前記外周領域が、第１のテンプレートの１段の段差構造において、局所的なパターン歪みを生じる領域を含むことを特徴とする。【選択図】 図２ |
