ガス流の制御

摘要

【課題】ＩＣＰ−ＣＣＴ機器内の複数の種類の衝突ガスの流れを制御するための、単一の流れ制御器のみを必要とするガス制御システムを提供することが望ましい。【解決手段】本発明は、ガス入口ライン上に配置される少なくとも第１の流れ制限部及び第２の流れ制限部と、ガス入口ラインに接続されるガス流制御ラインと、ガス制御ライン上のガス流制御器と、ガス入口ライン及びガス制御ライン内のガス流を制御するための弁とを備える、分析装置内にガスを提供するためのガス入口システムに関する。分析装置内へのガス流を制御する方法も提供される。【選択図】図１