发明名称 酸化物焼結体およびスパッタリングターゲット、並びにそれらの製造方法
摘要 【課題】ボンディング工程での割れの発生を抑制できる酸化物焼結体、および該酸化物焼結体を用いたスパッタリングターゲット、並びにそれらの製造方法を提供する。【解決手段】本発明の酸化物焼結体は、酸化インジウムと;酸化ガリウムと;酸化錫とを焼結して得られる酸化物焼結体であって、前記酸化錫の一次粒子径が0.5μm以下であり、かつ、前記酸化錫の二次粒子径が1μm以上5μm以下であり、酸化物焼結体に含まれる全金属元素に対する、インジウム、ガリウム及び錫の含有量の割合(原子%)を夫々、[In]、[Ga]及び[Sn]としたとき、30原子%≦[In]≦50原子%、20原子%≦[Ga]≦30原子%、25原子%≦[Sn]≦45原子%を満足する。【選択図】なし
申请公布号 JP2017019668(A) 申请公布日期 2017.01.26
申请号 JP20150135960 申请日期 2015.07.07
申请人 株式会社コベルコ科研 发明人 田尾 幸樹;畠 英雄;中根 靖夫
分类号 C04B35/00;C23C14/34 主分类号 C04B35/00
代理机构 代理人
主权项
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