发明名称 メトロロジーターゲットの設計のための方法及び装置
摘要 【課題】メトロロジターゲット設計の方法を提供する。【解決手段】方法は、光学収差に対するメトロロジターゲット設計についてのパラメータの感応性を決定すること、感応性と光学システムの収差との積に基づいてメトロロジターゲット設計についてのパラメータに与えるインパクトとリソグラフィ装置の光学システムを使用して露光される製品設計についてのパラメータに与えるインパクトとの間の差異を決定すること、を含む。方法は、複数の収差のうちの各々の収差に対するメトロロジターゲット設計についてのパラメータの感応性を決定すること、光学システムの各々の収差を乗じた感応性の合計に基づいてメトロロジターゲット設計についてのパラメータに与えるインパクトを決定すること、を更に含む。パラメータはオーバレイ誤差、クリティカルディメンション及び焦点であってよい。収差は露光スリット全体にわたって異なってよいが、感応性はスリット位置にほとんど依存しない。【選択図】図8
申请公布号 JP2017503195(A) 申请公布日期 2017.01.26
申请号 JP20160539278 申请日期 2014.12.04
申请人 エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. 发明人 チェン,グアンチン;ケント,エリック,リチャード;ワン,ジェン−シアン;アダム,オマル,アブバケール,オマル
分类号 G03F7/20;G03F9/00 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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