| 摘要 |
【課題】複数の基板を棚状に保持した保持具を反応容器内に搬入し、反応管内に処理ガスを供給して成膜処理を行うにあたり、基板間での膜厚の均一性を高くすること。【解決手段】前記反応容器内に成膜ガスを供給するためのガス供給部と、前記基板保持具に保持された前記複数の被処理基板の配置領域よりも上方及び下方に各々位置するように設けられるガス分布調整部材と、を備えるように装置を構成する。そして、前記ガス分布調整部材には、前記基板保持具の天板よりも下方、且つ前記基板保持具の底板よりも上方に設けられ、各々凹凸が各々形成された第１の板状部材と、第２の板状部材とが含まれ、前記第１の板状部材は第１の表面積を有し、前記第２の板状部材は、前記第１の表面積とは異なる第２の表面積を有する。【選択図】図１４ |
