| 摘要 |
Verfahren zum Betrieb einer Rohrmagnetronanordnung zur Beschichtung einem rotierenden Rohrtarget gegenüber liegender und an dem Rohrtarget vorbei bewegter Substrate mittels Sputtern indem über der Targetoberfläche des Rohrtargets, welches als Kathode geschaltet ist, und mittels einer benachbart zum Rohrtarget angeordneten Anode fortwährend ein Plasma gezündet wird, welches der Zerstäubung des Targetmaterials dient, und der Zündpunkt des Plasmas mittels eines innerhalb des Rohrtargets angeordneten, fixen Magnetsystems auf eine in sich geschlossene, relativ zur Achse des Rohrtargets fixe, längs zur Achse des Rohrtargets erstreckende und an dessen Enden Umkehrbereiche aufweisende Bahn gezwungen wird, die nachfolgend als Racetrack bezeichnet ist, dadurch gekennzeichnet, dass ein Magnetfeld erzeugt wird, dessen Stärke der zur Targetoberfläche parallelen Komponente der magnetischen Flussdichte im Bereich zwischen 20 und 40 mT liegt, wobei die parallele Komponente der Flussdichte im Umkehrbereich bis maximal 20% niedriger ist als in den Bereichen längs der Achse des Rohrtargets. |
