| 摘要 |
サブ２００ｎｍの連続波（ｃｗ）レーザを発生させる方法および装置が開示される。レーザ装置は、少なくとも希ガスまたは希ガス混合物を受けるチャンバと、少なくとも１つのｃｗ励起レーザを前記チャンバ内に焦点を合わせて発生させて、前記チャンバ内に少なくとも１つのレーザ維持プラズマを発生させる励起レーザ源と、を含む。レーザ装置はさらに、その内部で前記少なくとも１つのレーザ維持プラズマが約２００ｎｍよりも短い波長の少なくとも１つのｃｗレーザを生成するための励起源として機能する光学キャビティを形成するシステムを含む。１つの態様において前記少なくとも１つのレーザ維持プラズマは、前記光学キャビティの形状と実質的に一致する形状を有する。 |
