酸発生剤化合物及びそれを含むフォトレジスト

摘要

【課題】フォトレジスト組成物成分として特に有用な酸発生剤化合物の提供。【解決手段】式（１）の構造を含む酸発生剤。式中、Ｍ＋が対イオンであり、Ｚ１及びＺ２が、それぞれ独立して、水素または非水素置換基を表し、Ｚ１またはＺ２のうちの少なくとも１つがフッ素またはフルオロアルキルであり、Ｌ１がリンカー基であり、Ｗ１が、任意に置換された炭素脂環式基または任意に置換されたヘテロ脂環式基であり、Ｒ１が、−（Ｃ＝Ｏ）Ｏ（−（ＣＸＹ）ＣＸ’Ｙ’Ｏ）ｎＲであり、式中、ｎが正の整数であり、Ｒが、任意に置換されたアルキル、任意に置換されたアルコキシ、水素、またはヒドロキシルであり、各Ｘ、Ｙ、Ｘ’、及びＹ’が、水素または非水素置換基であり、１つ以上のエーテル結合を含み、ｍが正の整数である。【選択図】なし