| 摘要 |
特許文献1は、マイクロラフネスを測定する手段としてはAFM（原子間力顕微鏡）による高さ測定が用いられている。しかし、この測定には時間がかかるため、１つの表現としてはウエハのインライン全数検査や全面検査に適用することは難しい。本発明は、光散乱法を用いて、複数の検出系の信号総和および信号比率からマイクロラフネスを推定するものである。本発明は、ウエハを高速に回転、並進することにより、高スループットでウエハ全面を測定する。さらに、マイクロラフネスと散乱光量との関係は、ウエハの材料や膜厚によって異なる。また、装置の校正も必要である。本発明はこの点に着目したものであり、測定対象と実質的に同じ試料を用いて光学的に得られた検出結果を補正する機能を有し、光学的に得られた検出結果を他の計測原理を利用する装置（例えば、AFM）で測定された結果により近づけるものである。 |
