发明名称 スプリットフロー真空ポンプ及びスプリットフロー真空ポンプを有する真空システム
摘要 【課題】本発明の基礎は、設けられるポンプ段の数量を高めることなくインレットの数量が高められるスプリットフロー真空ポンプを提供するという技術的課題にある。【解決手段】課題は、少なくとも三つの半径方向のインレットを有し、及び少なくとも四つのポンプ段を有するスプリットフロー真空ポンプであって、少なくとも一つのポンプ段がターボ分子ポンプ段として形成されており、少なくとも三つのインレットが主インレットとして形成されており、これらが軸方向においてポンプ段の間に設けられているスプリットフロー真空ポンプにおいて、追加的に少なくとも一つの半径方向の副インレット(27,28,52)が設けられており、この副インレットが少なくとも一つのターボ分子ポンプ段(21,22,44,45,46)の領域に設けられていることによって解決される。【選択図】図1
申请公布号 JP2017020502(A) 申请公布日期 2017.01.26
申请号 JP20160128671 申请日期 2016.06.29
申请人 プファイファー・ヴァキューム・ゲーエムベーハー 发明人 トビアス・シュトル;ミヒャエル・シュヴァイクヘーファー;ヤン・ホフマン
分类号 F04D19/04 主分类号 F04D19/04
代理机构 代理人
主权项
地址