发明名称 パターン測定装置、及びコンピュータープログラム
摘要 【課題】本発明は、帯電の影響によらず、高精度な測定やパターン識別を行うことが可能なパターン測定装置の提供を目的とする。【解決手段】上記目的を達成するために本発明では、第1の方向に向かって荷電粒子ビームを走査したときに得られる第1の信号波形(103)と、前記第1の方向とは異なる第2の方向に向かって荷電粒子ビームを走査したときに得られる第2の信号波形(105)との間で差分演算を行い、当該差分に応じた重みで、前記荷電粒子ビームの走査によって得られる信号を加算処理することによって、合成プロファイル(110)を生成するパターン測定装置を提案する。【選択図】 図1
申请公布号 JP2017020981(A) 申请公布日期 2017.01.26
申请号 JP20150140948 申请日期 2015.07.15
申请人 株式会社日立ハイテクノロジーズ 发明人 本美 元伸;酒井 計;板井 秀樹
分类号 G01B15/04 主分类号 G01B15/04
代理机构 代理人
主权项
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