| 摘要 |
Die vorliegende Erfindung sieht eine Elektronenstrahlvorrichtung vor, die eine hohe räumliche Auflösung und eine hohe Luminanz erreicht, während sie für die Wirkungen äußerer Störungen unempfindlich bleibt. Die vorliegende Erfindung betrifft eine Elektronenstrahlvorrichtung, wobei beispielsweise zwischen einer Elektronenquelle (101) zum Erzeugen eines Elektronenstrahls und einer Objektivlinse zum Fokussieren des Elektronenstrahls auf eine Probe (114) eine Hochspannungs-Strahlröhre (110) nahe der Elektronenquelle (101) angeordnet ist und eine Niederspannungs-Strahlröhre (112) nahe der Objektivlinse angeordnet ist. Dies ermöglicht es, eine hohe Luminanz zu erreichen, während die räumliche Auflösung beibehalten wird, und zwar selbst mit einem SEM, das mit einem Objektivlinsentyp versehen ist, der ein Magnetfeld tief zu einer Probe streut. |
