| 摘要 |
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Pellikel für eine Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie sowie eine Projektionsbelichtungsanlage mit einem Pellikel mit einer Membran (10) aus Silizium, die eine Beschichtung aufweist, wobei in der Beschichtung mindestens eine Oxidationsschutzschicht (12) angeordnet ist, wobei die Beschichtung weiterhin mindestens eine Wasserstoffschutzschicht (13) umfasst. |
