发明名称 一种电磁屏蔽膜用金属层的制备方法
摘要 本发明公开了一种电磁屏蔽膜用金属层的制备方法,属于电子材料技术领域。本发明采用如下制备方法:将经表面粗化处理的电磁屏蔽膜基材浸入受体中心溶液中处理,使得基材表面紧密组装有受体中心,然后通过浸泡吸附激活离子,最后将基于上述处理的基材放入化学沉积液中生长金属层,最终制得电磁屏蔽膜用金属层。本发明昂贵的设备即可制得均匀致密的金属层,且可实现金属层与非金属电磁屏蔽基材等难镀基材的强结合;本发明制备工艺简单、生产成本低,可用于电磁屏蔽膜的大规模工业生产。
申请公布号 CN106350789A 申请公布日期 2017.01.25
申请号 CN201610828042.3 申请日期 2016.09.18
申请人 电子科技大学 发明人 冯哲圣;张景;万亚东;陈金菊;王焱
分类号 C23C18/22(2006.01)I;C23C18/20(2006.01)I;C23C18/40(2006.01)I 主分类号 C23C18/22(2006.01)I
代理机构 成都点睛专利代理事务所(普通合伙) 51232 代理人 葛启函
主权项 一种电磁屏蔽膜用金属层的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤A:电磁屏蔽膜基材的表面粗化处理;步骤B:将步骤A制得的基材浸入含有受体中心的溶液中处理,使得基材表面自组装受体中心;步骤C:将步骤B制得的基材浸入含有激活离子的溶液中处理,使得基材表面通过受体中心吸附激活离子;步骤D:将步骤C制得的基材浸入化学沉积液中进行金属层沉积。
地址 611731 四川省成都市高新区(西区)西源大道2006号