| 发明名称 | 用于半导体制造装置的反应管 | ||
| 摘要 | 1．本外观设计产品的名称：用于半导体制造装置的反应管。2．本外观设计产品的用途：在半导体制造的成膜过程中，设置在成膜装置内并使产品晶圆与气体反应，如使用状态参考图所示。3．本外观设计产品的设计要点：在于形状的设计。4．最能表明本外观设计设计要点的图片或照片：主视图。 | ||
| 申请公布号 | CN304018997S | 申请公布日期 | 2017.01.25 |
| 申请号 | CN201630473776.5 | 申请日期 | 2016.09.19 |
| 申请人 | 东京毅力科创株式会社 | 发明人 | 永田朋幸 |
| 分类号 | 15-99(10) | 主分类号 | 15-99(10) |
| 代理机构 | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人 | 刘新宇;张会华 |
| 主权项 | |||
| 地址 | 日本东京都 | ||