发明名称 一种在铜镍合金表面形成耐蚀电化学转化膜的方法
摘要 本发明提供的是一种在铜镍合金表面形成耐蚀电化学转化膜的方法。对经表面预处理的铜镍合金进行电化学处理后再进行后处理,所述电化学处理是以每升水含0.1‑1.0mol/LNa<sub>2</sub>SO<sub>4</sub>和0.05‑0.5mol/L NaHCO<sub>3</sub>为电解质溶液,以待处理铜镍合金为工作电极、铂电极作为对电极、Ag/AgCl电极作为参比电极,先进行递增电位周期扫描,再进行载波钝化。利用本发明的技术可以在合金服役之前进行电化学处理,形成一层耐蚀性薄膜,隔断铜镍合金基体与工作环境腐蚀介质的接触。该技术形成的转化膜具有耐蚀性良好,膜层厚度较大,均匀致密,与基体结合良好的特点。
申请公布号 CN104213176B 申请公布日期 2017.01.25
申请号 CN201410448507.3 申请日期 2014.09.04
申请人 哈尔滨工程大学 发明人 孟国哲;孟利园;邵亚薇;张涛;王艳秋;刘斌
分类号 C25D11/34(2006.01)I 主分类号 C25D11/34(2006.01)I
代理机构 代理人
主权项 一种在铜镍合金表面形成耐蚀电化学转化膜的方法,对经表面预处理的铜镍合金进行电化学处理后再进行后处理,其特征是:所述电化学处理是以每升水含0.1‑1.0mol/L Na<sub>2</sub>SO<sub>4</sub>和0.05‑0.5mol/L NaHCO<sub>3</sub>为电解质溶液,以待处理铜镍合金为工作电极、铂电极作为对电极、Ag/AgCl电极作为参比电极,先进行递增电位周期扫描,再进行载波钝化;所述递增电位周期扫描的方法为:给予工作电位一低电位Ea,并且以恒定扫描速度递增至高电位Eb,重复扫描数次该电位区间,所述低电位Ea、高电位Eb由所述铜镍合金裸样在所述电解质溶液的动电位极化曲线确定,低电位Ea取该铜镍合金在该电解质溶液中大于开路E(ocp)10mV‑70mV,高电位Eb取铜镍合金自阳极极化曲线小于击破电位E(bup)100mV‑300mV,扫描速度在20‑60mV/min之间,重复次数2‑4次;所述载波钝化的方法为:利用小振幅方波交变电场对铜镍合金表面进行处理,涉及参数有载波时间t、交变电场周期T、高电位E<sub>h</sub>、低电位E<sub>l</sub>,其中高电位E<sub>h</sub>取500mV‑700mV之间,低电位E<sub>l</sub>取‑150mV至0之间,T=t<sub>h</sub>+t<sub>l</sub>,f=1/T,k=t<sub>h</sub>/T,t在10‑30min,T在0.01‑0.1s,频率f在10‑30Hz,占空比k在10%‑80%之间。
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