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发明名称
ETCHING COMPOSITION
摘要
This disclosure relates to etching compositions containing 1) at least one oxidizing agent; 2) at least one chelating agent; 3) at least one metal corrosion inhibitor; 4) at least one organic solvent; 5) at least one amidine base; and 6) water.
申请公布号
EP3119924(A1)
申请公布日期
2017.01.25
申请号
EP20150765751
申请日期
2015.03.17
申请人
FUJIFILM Electronic Materials U.S.A, Inc.
发明人
DORY, Thomas;KNEER, Emil A.;TAKAHASHI, Tomonori
分类号
C23F1/10;C23F1/40;C23F1/44
主分类号
C23F1/10
代理机构
代理人
主权项
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