发明名称 |
一种低热阻、抗辐照的纳米多层薄膜材料及其制备方法 |
摘要 |
本发明公布了一种低热阻、抗辐照的纳米多层薄膜材料,它是以金属钨纳米薄膜和单层石墨烯交叉层叠的多层复合结构,制备方法为:将金属钨纳米薄膜沉积在二氧化硅基底上,然后转移单层石墨烯到所述金属钨纳米薄膜的表面,之后交替沉积钨纳米薄膜和转移单层石墨烯,得到低热阻、抗辐照的纳米多层薄膜材料。针对目前双金属的多层膜结构会使材料的热学性能大大降低,本发明提供了一种兼顾优秀的导热性能和抗辐照性能材料,其为以金属钨纳米薄膜和单层石墨烯交叉层叠的多层复合结构,不仅可以减小由于多层膜结构界面存在导致的热传导性能的下降,而且可以使材料保持优秀的抗辐照能力。 |
申请公布号 |
CN106350771A |
申请公布日期 |
2017.01.25 |
申请号 |
CN201610908041.X |
申请日期 |
2016.10.18 |
申请人 |
武汉大学 |
发明人 |
肖湘衡;司书尧;赵晓龙;李文庆;蒋昌忠 |
分类号 |
C23C14/18(2006.01)I;C23C14/35(2006.01)I;C23C28/00(2006.01)I;C23C16/01(2006.01)I;C23C16/26(2006.01)I |
主分类号 |
C23C14/18(2006.01)I |
代理机构 |
湖北武汉永嘉专利代理有限公司 42102 |
代理人 |
唐万荣;张秋燕 |
主权项 |
一种低热阻、抗辐照的纳米多层薄膜材料,其特征在于它是以金属钨纳米薄膜和单层石墨烯交叉层叠的多层复合结构。 |
地址 |
430072 湖北省武汉市武昌区珞珈山武汉大学科发院 |