发明名称 LDI曝光设备以及系统
摘要 本发明提供了一种LDI曝光设备以及系统,涉及印制电路板图形转移技术领域,包括曝光台、真空抽滤装置与密闭装置;曝光台用于承载真空抽滤装置与密闭装置;真空抽滤装置用于抽去密闭装置内部的空气以达到预定真空度;密闭装置用于隔绝空气,保证密闭装置内的曝光目的物在曝光过程中处于真空状态;密闭装置由透光材料制成。通过制造真空的环境,使曝光目的物在曝光过程中处于真空的状态,提高了油墨中自由基的利用率,使自由基充分的引发油墨产生聚合反应,实现有效的改善油墨表面的聚合程度,达到明显提高油墨表面的光泽度,且设计结构简单,减少了曝光设备的造价。
申请公布号 CN106353975A 申请公布日期 2017.01.25
申请号 CN201611061210.7 申请日期 2016.11.25
申请人 天津津芯微电子科技有限公司 发明人 祝锁
分类号 G03F7/20(2006.01)I 主分类号 G03F7/20(2006.01)I
代理机构 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 代理人 马维丽
主权项 一种LDI曝光设备,其特征在于,包括:曝光台、真空抽滤装置与密闭装置;所述曝光台用于承载所述真空抽滤装置与所述密闭装置;所述真空抽滤装置,用于抽去所述密闭装置内部的空气以达到预定真空度;所述密闭装置用于隔绝空气,保证所述密闭装置内的曝光目的物在曝光过程中处于真空状态;所述密闭装置由透光材料制成。
地址 300457 天津市滨海新区天津经济技术开发区黄海路167号133、302、303、305、306、307、309、310