发明名称 |
外爆型平面薄膜负载装置 |
摘要 |
本发明提供一种外爆型平面薄膜负载装置,整个负载装置包括平面金属薄膜、支撑结构及薄膜调节装置,其中,支撑结构包括阴极底座、阳极底座、阴极平台及导流柱,导流柱的一端通过阴极底座与加速器阴极电接触,阴极底座直接与加速器阴极连接,导流柱脚被底座扣在加速器阴极上,导流柱的另一端与阴极平台电接触,阳极底座位于阴极平台和阴极底座之间且与加速器阳极电接触,阳极底座和阴极平台相互平行且与导流柱垂直。本发明外爆型平面薄膜负载作为Z箍缩不稳定性研究实验中的一个关键部件,在于它可以研究负载平面受力与不稳定性发展方向相同时,不稳定性的发展情况。相关研究结果可以应用于分析MagLIF套筒靶在致稳磁场作用下不稳定性发展情况。 |
申请公布号 |
CN104219862B |
申请公布日期 |
2017.01.25 |
申请号 |
CN201410461018.1 |
申请日期 |
2014.09.11 |
申请人 |
西北核技术研究所 |
发明人 |
袁媛;盛亮;李阳;张美;彭博栋;赵吉祯;李奎念;王培伟 |
分类号 |
H05H1/02(2006.01)I |
主分类号 |
H05H1/02(2006.01)I |
代理机构 |
西安智邦专利商标代理有限公司 61211 |
代理人 |
王少文 |
主权项 |
一种外爆型平面薄膜负载装置,其特征在于:包括平面金属薄膜、支撑结构及薄膜调节结构,所述支撑结构包括阴极底座(51)、阳极底座(52)、阴极平台(58)及导流柱(55),所述导流柱(55)的一端通过阴极底座(51)与加速器阴极电接触,所述导流柱(55)的另一端与阴极平台(58)电接触,所述阳极底座(52)位于阴极平台(58)和阴极底座(51)之间且与加速器阳极电接触,所述阳极底座(52)和阴极平台(58)相互平行且与导流柱(55)垂直;所述薄膜调节结构包括设置于阴极平台(58)外侧的两个活动阴极(56)、设置于阳极底座(52)外侧的两个限位块(60)、两个导轨(61)及两个固定块(53),所述两个活动阴极(56)可沿阴极平台(58)向相反方向滑动并定位,所述两个固定块(53)位于导流柱(55)两外侧且与阳极底座(52)固定连接,两个导轨(61)分别固定在两个固定块(53)上且与阴极平台(58)滑动方向平行,两个限位块(53)分别设置在两条导轨(61)的两端并可沿两条导轨(61)滑动并定位,所述平面金属薄膜(57)的一端与一个限位块(60)电接触,另一端经过两个活动阴极(56)的外表面后与另一限位块(60)电接触,形成一个倒U型结构,所述倒U型结构的两臂所在的两个平面均为负载平面,所述负载平面与导流柱(55)的相对面之间平行。 |
地址 |
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