发明名称 磁环表面缺陷提取方法
摘要 本发明公开了一种磁环表面缺陷提取方法,包括如下步骤:利用0TSU分割磁环图像S(X,Y),得到磁环二值图像B(X,Y),将B(X,Y)和S(X,Y)进行与运算,得到屏蔽背景图像F(X,Y);利用Canny算法提取磁环图像F(X,Y)的边缘检测图像Q(X,Y);将Q(X,Y)转换为数字形态学运算图像Q<sub>x</sub>(X,Y);对Q<sub>x</sub>(X,Y)内部连通区域进行填充,得到掩模图像Q<sub>m</sub>(X,Y);将Q<sub>m</sub>(X,Y)和Q<sub>x</sub>(X,Y)进行异或运算,得到缺陷连通域图像Q′(X,Y)。本发明运行效率高和准确率高,稳定性和鲁棒性强,能够识别常见的缺陷的具有特点。
申请公布号 CN106353324A 申请公布日期 2017.01.25
申请号 CN201610656786.1 申请日期 2016.08.10
申请人 浙江理工大学 发明人 李俊峰;张之祥;沈军民;陈龙
分类号 G01N21/88(2006.01)I 主分类号 G01N21/88(2006.01)I
代理机构 杭州杭诚专利事务所有限公司 33109 代理人 尉伟敏;阎忠华
主权项 一种磁环表面缺陷提取方法,其特征是,包括如下步骤:(1‑1)利用OTSU分割磁环图像S(X,Y),得到磁环二值图像B(X,Y),将B(X,Y)和S(X,Y)进行与运算,得到屏蔽背景图像F(X,Y);(1‑2)利用Canny算法提取磁环图像F(X,Y)的边缘检测图像Q(X,Y):(1‑3)将Q(X,Y)转换为数字形态学运算图像Q<sub>x</sub>(X,Y);(1‑4)对Q<sub>x</sub>(X,Y)内部连通区域进行填充,得到掩模图像Q<sub>m</sub>(X,Y);(1‑5)将Q<sub>m</sub>(X,Y)和Q<sub>x</sub>(X,Y)进行异或运算,得到缺陷连通域图像Q′(X,Y)。
地址 310018 浙江省杭州市下沙高教园区浙江理工大学