| 发明名称 | 适用于印刷工艺制备显示器的像素Bank结构及其制备方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供了一种适用于印刷工艺制备显示器的像素bank结构及其制备方法。适用于印刷工艺制备显示器的像素Bank结构，包括基板、图案化像素电极和像素Bank层，所述像素Bank层包括设置在所述基板上的第一像素Bank和设置在所述第一像素Bank上表面的第二像素Bank，其中，所述第一像素Bank为上窄下宽的Bank结构，且所述第一像素Bank由亲液性材料制成；所述第二像素Bank包括一对相互抵靠的导墨斜坡，所述导墨斜坡的高度沿着所述相互抵靠的导墨斜坡相互靠近的方向渐增设置，且所述第二像素Bank由疏液性材料制成。 | ||
| 申请公布号 | CN106356396A | 申请公布日期 | 2017.01.25 |
| 申请号 | CN201611060128.2 | 申请日期 | 2016.11.24 |
| 申请人 | TCL集团股份有限公司 | 发明人 | 陈亚文 |
| 分类号 | H01L27/32(2006.01)I;H01L51/56(2006.01)I | 主分类号 | H01L27/32(2006.01)I |
| 代理机构 | 深圳中一专利商标事务所 44237 | 代理人 | 黄志云 |
| 主权项 | 一种适用于印刷工艺制备显示器的像素Bank结构，包括基板、图案化像素电极和像素Bank层，其特征在于，所述像素Bank层包括设置在所述基板上的第一像素Bank和设置在所述第一像素Bank上表面的第二像素Bank，其中，所述第一像素Bank为上窄下宽的Bank结构，且所述第一像素Bank由亲液性材料制成；所述第二像素Bank包括一对相互抵靠的导墨斜坡，所述导墨斜坡的高度沿着所述相互抵靠的导墨斜坡相互靠近的方向渐增设置，且所述第二像素Bank由疏液性材料制成。 | ||
| 地址 | 516006 广东省惠州市仲恺高新技术开发区十九号小区 | ||