| 摘要 |
Ru 보호층으로부터의 산화에 의한 반사율의 저하가 억제된 EUV 마스크 블랭크, 및 그 EUV 마스크 블랭크의 제조에 사용되는 반사층이 형성된 기판, 그리고 그 반사층이 형성된 기판의 제조 방법의 제공. 기판 상에, EUV 광을 반사하는 반사층과, 그 반사층을 보호하는 보호층이 이 순서로 형성된 EUV 리소그래피용 반사층이 형성된 기판으로서, 상기 반사층이, Mo/Si 다층 반사막이고, 상기 보호층이, Ru 층, 또는 Ru 화합물층이고, 상기 반사층과 상기 보호층 사이에, 질소를 0.5 ∼ 25 at％ 함유하고, Si 를 75 ∼ 99.5 at％ 함유하는 중간층이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 EUV 리소그래피용 반사층이 형성된 기판. |
