发明名称 CLEANING METHOD AND CLEANING DEVICE USING MICRO/NANO-BUBBLES
摘要 피처리 기판에 대해 마이크로·나노 버블을 함유하는 처리액의 분사라는 간편한 방법만으로, 환경에 대한 부하를 저감시키면서, 기판 상의 레지스트 잔류물 부착의 박리 혹은 오염물의 제거를, 효율적으로, 또한, 확실하게 실시할 수 있는 마이크로·나노 버블에 의한 세정 방법 및 세정 장치를 제공한다. 본 발명의 세정 방법은, 기판 상에 레지스트막이 부착된 피처리 기판 혹은 표면이 금속 또는 금속 화합물로 오염된 피처리 기판에 대해, 빙 포매법에 의해 크라이오 투과형 전자 현미경으로 측정했을 때의 평균 입경이 100 nm 이하, 바람직하게는 30 nm 이하이며, 더욱 바람직하게는, 그 밀도가 1 ㎖ 당 10개 이상인 기체의 마이크로·나노 버블을 함유하고, 또한, 온도가 30 ∼ 90 ℃ 로 유지되어 있는 처리액을 분사함으로써, 상기 레지스트막의 박리 혹은 상기 금속 또는 금속 화합물의 제거를 실시하는 것을 특징으로 한다.
申请公布号 KR20170008813(A) 申请公布日期 2017.01.24
申请号 KR20167035300 申请日期 2015.12.01
申请人 시그마 테크놀로지 유겐가이샤 发明人 다치바나 요시아키
分类号 H01L21/02;B01F1/00;B01F3/04;B01F5/02;B01F15/06;B05B7/16;B05B7/32;B05D1/02;B05D3/10;H01L21/027;H01L21/304 主分类号 H01L21/02
代理机构 代理人
主权项
地址