| 发明名称 |
PATTERN INSPECTING AND MEASURING DEVICE AND PROGRAM |
| 摘要 |
검사 또는 계측 대상의 패턴을 촬상해서 얻어진 화상 데이터로부터 추출한 에지의 위치를 사용한 검사 또는 계측에 있어서, 노이즈 등의 영향을 저감해서 검사 또는 계측 결과의 신뢰성을 향상시키는 패턴 검사·계측 장치를 제공한다. 이 를 위해서, 검사 또는 계측 대상 패턴을 촬상해서 얻어진 화상 데이터로부터 에지 추출 파라미터를 사용해서 추출한 에지의 위치를 사용하여 검사 또는 계측 대상 패턴의 검사 또는 계측을 행하는 패턴 검사·계측 장치에 있어서, 검사 또는 계측의 기준이 되는 형상을 나타내는 기준 패턴과 상기 화상 데이터를 사용해서 상기 에지 추출 파라미터를 생성하는 것을 특징으로 한다. |
| 申请公布号 |
KR101698700(B1) |
申请公布日期 |
2017.01.20 |
| 申请号 |
KR20157008960 |
申请日期 |
2013.10.11 |
| 申请人 |
가부시키가이샤 히다치 하이테크놀로지즈 |
发明人 |
미나까와, 쯔요시;히로이, 다까시;요시다, 다께유끼;니노미야, 다꾸;야마모또, 다꾸마;신도, 히로유끼;후꾸나가, 후미히꼬;도요다, 야스따까;시노다, 신이찌 |
| 分类号 |
G01N23/225;G01B15/04;G06T1/00;H01J37/244;H01L21/66 |
主分类号 |
G01N23/225 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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