发明名称 COMPOSITION FOR FORMING CONDUCTIVE PATTERN AND RESIN STRUCTURE HAVING CONDUCTIVE PATTERN THEREON
摘要 본 발명은 각종 고분자 수지 제품 또는 수지층 상에 단순화된 공정으로 미세한 도전성 패턴을 형성할 수 있게 하며, 다양한 색상 구현 등의 당업계의 요구를 보다 효과적으로 충족할 수 있게 하는 도전성 패턴 형성용 조성물 및 도전성 패턴을 갖는 수지 구조체에 관한 것이다. 상기 도전성 패턴 형성용 조성물은 고분자 수지; 및 소정의 화학 구조를 갖는 비도전성 금속 화합물을 포함하고, 전자기파 조사에 의해 상기 비도전성 금속 화합물로부터 금속핵이 형성되는, 전자기파 조사에 의한 도전성 패턴 형성용 조성물로 될 수 있다.
申请公布号 KR101698524(B1) 申请公布日期 2017.01.20
申请号 KR20150130984 申请日期 2015.09.16
申请人 주식회사 엘지화학 发明人 정한나;박치성;이하나;박철희;김재현;전신희;성은규;이수정
分类号 H01B1/22;C08K3/22;C08L101/00;H01B5/14;H01B13/00 主分类号 H01B1/22
代理机构 代理人
主权项
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