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접착성이 양호하고, 표면 평탄성이 우수한 하층막을 형성 가능한 하층막 형성용 수지 조성물, 적층체, 패턴 형성 방법 및 디바이스의 제조 방법을 제공한다. 일반식 (A)로 나타나는 기 및 일반식 (B)로 나타나는 기를 갖는 수지와, 용제를 함유하는 하층막 형성용 수지 조성물이다. R은, 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, R및 R는, 각각 독립적으로 탄소수 1~20의 직쇄 또는 분기의 무치환 알킬기 및 탄소수 3~20의 무치환 사이클로알킬기로부터 선택되는 기를 나타내며, R은 탄소수 2~20의 직쇄 또는 분기의 무치환 알킬기 및 탄소수 3~20의 무치환 사이클로알킬기로부터 선택되는 기를 나타내고, R와 R은 서로 결합하여 환을 형성하고 있어도 된다. |
