MASK BLANK AND TRANSFER MASK MANUFACTURING METHOD

摘要

전자선 묘화에 의해 전자선 레지스트(4)의 레지스트 패턴을 형성하는 전자선 묘화용의 마스크 블랭크로서, 투명 기판(1) 상에, 차광막(2)과, 상기 차광막의 에칭에 대하여 내성을 갖는 무기계 재료로 이루어지는 에칭 마스크막(3)이 이 순서로 형성된 마스크 블랭크의 제조 방법에서, 상기 에칭 마스크막(3)을 성막할 때에, 상기 기판의 적어도 측면에는 성막되지 않도록 차폐판에 의해 차폐한다.