プラズマ処理における空間分解発光分光分析

摘要

半導体プラズマ処理チャンバ内での、プラズマ発光の二次元分布を計測する方法、演算方法、システム及び装置が開示される。取得されたプラズマ発光の二次元分布は、プラズマ中に存在する関心がある特定の化学種の濃度の二次元分布を推測するのに用いられる。これによりプロセス開発や、新規かつ改善されたプロセスツール開発にも有用な手段が提供される。開示された技術は、演算的には単純かつ低廉であり、光学強度の周方向の変動を許容する基底関数の合計という想定光学強度分布の拡張利用を含む。基底関数に適した例としては、ゼルニケ多項式がある。