发明名称 |
チャックアセンブリを有する極端紫外線リソグラフィーシステム及びその製造方法 |
摘要 |
EUVリソグラフィーシステム及びその製造方法は、EUV光源と、所定のチャック平坦度を有する表面を有する、熱伝導性があり平滑なチャックと、EUV光源からのEUV光をチャックの表面上に向けるための反射レンズ系とを含む。 |
申请公布号 |
JP2017502321(A) |
申请公布日期 |
2017.01.19 |
申请号 |
JP20160524513 |
申请日期 |
2014.12.19 |
申请人 |
アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドAPPLIED MATERIALS,INCORPORATED |
发明人 |
フォアド マジード エー |
分类号 |
G03F7/20;G03F1/24;H01L21/683 |
主分类号 |
G03F7/20 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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