发明名称 チャックアセンブリを有する極端紫外線リソグラフィーシステム及びその製造方法
摘要 EUVリソグラフィーシステム及びその製造方法は、EUV光源と、所定のチャック平坦度を有する表面を有する、熱伝導性があり平滑なチャックと、EUV光源からのEUV光をチャックの表面上に向けるための反射レンズ系とを含む。
申请公布号 JP2017502321(A) 申请公布日期 2017.01.19
申请号 JP20160524513 申请日期 2014.12.19
申请人 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドAPPLIED MATERIALS,INCORPORATED 发明人 フォアド マジード エー
分类号 G03F7/20;G03F1/24;H01L21/683 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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